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本文標題："生氧化硅、孔隙度石英顆粒分析顯微鏡"
新聞來源：未知 發布時間：2019-5-16 3:15:53 本站主頁地址：http://www.027toilet.cn
生氧化硅、孔隙度石英顆粒分析顯微鏡
氧化硅的來源，控制沉淀作用的物理化學條件，以及氧化硅膠結性與
壓溶之間的關系等都直接受到注意(據伊里蘭德，Ireland， 1959) 。
毫無疑問，氧化硅膠結物可從溶液中沉淀出來。溶液中的氧化硅來自
放射蟲、硅藻殼和硅質海綿骨針等有機碎屑。同樣，有些富硅溶液必定是
從壓實粘土中排出的。人工培植氧化硅晶簇，曾做過大量成功的試驗。在
高溫高壓-F即可獲得晶簇(據赫爾德和倫頓， Heald and Renton， 196
6； 帕拉掛蘇， Paraguassu，1972)，在常溫常壓下也可獲得(據馬肯茲
和吉斯，Mackenzieand Gees， 1971)，
研究次生氧化硅、孔隙度和埋藏深度之間的關系無疑要與壓溶或壓熔(
Pressure welding)現象結合起來。許多薄片顯示，石英顆粒彼此緊擠，次
生氧化硅則在鄰近顆粒間接觸點處沉淀。許多研究工作者根據這些觀察都
認為，當砂被壓縮時，顆粒接觸處的氧化硅被溶解并瞬即再沉淀。最近里
坦霍斯(Rittenhouse，1971)對孔隙度減少作了定量分析。這個分析把壓溶
與顆粒形態和填積結合起來。
泰勒(Taylor，1950)認為，隨著埋藏深度的增加，每個顆粒接觸鄰近
顆粒的數量，可從接近地表處的1、 2個增加到深處的5個或5個以上。同
時，他還說明顆粒的接觸性質隨埋藏深度的增加而變化。在淺部，巖石的
顆粒接觸關系普遍為顆粒相切或點狀接觸；向下漸變為長形狀接觸，顆粒
邊緣并排地貼在一起；再往深處，顆粒變為凹凸相接，該處壓溶作用強烈
，接觸邊緣普遍縫合。上述顆粒接觸在數量和性質上的變化，是和孔隙度
的逐漸降低相伴隨的
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